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產品說明
全新RX50M研究級金相顯微鏡集多項首創于一身,從外觀到性能都緊跟國際領先設計風向,致力于拓展工業領域全新格局,RX50M秉承光谷不斷探索不斷超越的品牌設計理念,為客戶提供完善的工業檢測解決方案。
寬光束成像系統設計:支持25mm世界領先的超寬視野觀察,帶給您全新的大視野體驗。
偏振系統:偏振系統包括起偏鏡插板和檢偏鏡插板,可做偏光檢測,在半導體和PCB檢測中,可消除雜光,細節更清楚,360°旋轉式檢偏器可在不移動標本的情況下,方便的觀察標本在不同偏振角度光線下呈現的狀態。
微分干涉相襯成像系統:可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差,轉化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現出來,如LCD導電粒子,精密磁盤表面劃痕等。
中性密度濾色鏡聯動明暗場觀察設計:照明器前段的撥桿可使明暗場觀察切換更加方便,并帶有中性密度濾色鏡聯動功能,可以避免用戶在由暗場切換至明場時,眼鏡不會受到強光的刺激,提高使用的舒適性。
物鏡轉換器:多孔物鏡轉換器可以對同一個標本的觀測點進行連續的更加合理的低、中、高放大倍率的觀察。
右手位平臺,帶鎖緊裝置:4英寸大行程機械平臺,適用范圍廣,帶Y軸移動鎖定功能,完全鎖緊后限制Y軸的移動,可用于橫向檢測,放置陣列器件檢測時出現漏檢現象。
透反射照明裝置,光源兼容:12V100W超長壽命燈箱,采用飛利浦7724型鹵素燈,為系統提供充足、均勻的照明環境。
可提供反射明場、反射暗場、透射明場、透反射偏光、反射微分干涉等多種觀察功能。
成像系統可有多種選擇:4K高清成像系統、USB3.0電腦版成像系統、超景深融合功能成像系統、高精度測量成像系統、金相分析成像系統等
集多項首創于一身,從外觀到性能都緊跟國際領先設計風向,多檔分光比觀察頭提供全新舒適的大視野體驗。致力于拓展工業領域全新格局,為客戶提供完善的工業檢測解決方案。
技術規格
放大倍率 | 50X、100X、200X、500X | |
光學系統 | ||
無限遠色差校正光學系統(半復消色差) | ||
目鏡 | 高眼點大視野平場目鏡PL10X/25mm,視度可調 | |
物鏡 | 明暗場半復消色差金相物鏡(5X、10X、20X、50X) | |
觀察筒 | 30° 傾斜, 正像,無限遠鉸鏈式三目觀察筒,瞳距調節:50mm-76mm,兩檔分光比:100:0 或0:100 | |
轉換器 | 明暗場六孔轉換器,帶DIC 插槽 | |
調焦機構 | 反射用機架,低手位粗微同軸調焦機構,粗調行程28mm,微調精度0.001mm。帶有防止下滑的調節松緊裝置和隨機上限位裝置,內置100-240V 寬電壓系統,采用數字調光,具有光強設定與復位功能 | 透反兩用機架,低手位粗微同軸調焦機構,粗調行程28mm,微調精度0.001mm。帶有防止下滑的調節松緊裝置和隨機上限位裝置,內置100-240V 寬電壓系統,雙路電源輸出,采用數字調光,具有光強設定與復位功能,反射、透射光切換開關,內置透射濾色鏡LBD、ND6、ND25 |
載物臺 | 右手位4 英寸機械平臺,行程102mm×105mm,帶Y 軸鎖定機構,帶擋光板,帶金屬載物臺板 | 右手位4 英寸機械平臺,行程102mm×105mm,帶Y 軸鎖定機構,帶擋光板,帶玻璃載物臺板 |
反射照明系統 | 明暗場反射照明器,帶可變孔徑光闌,視場光闌,中心均可調;帶明暗場照明切換裝置;帶濾色片插槽與偏光裝置插槽 | |
燈室 | 12V100W 鹵素燈室,反射用,預定中心 | |
透射照明系統 | / | 12V100W 鹵素燈室,透射用,預定中心 |
聚光鏡 | / | 搖出式消色差聚光鏡N.A.0.9,可變孔徑光闌,中心可調 |
偏光裝置 | 起偏鏡插板,360°旋轉式檢偏鏡插板 | |
攝像附件 | 0.5X攝像接筒,C 型接口,可調焦 |
選配件
目鏡 | 高眼點大視野平場目鏡PL10X/25mm,視度可調,可帶測微尺 |
高眼點大視野平場目鏡PL10X/26.5mm ,視度可調,可帶測微尺 | |
物鏡 | 明暗場半復消色差金相物鏡(100X) |
明場半復消色差金相物鏡(5X、10X、20X、50X 、100X) | |
觀察筒 | 30° 傾斜, 倒像,無限遠鉸鏈式三目觀察筒,瞳距調節:50mm-76mm,三檔分光比:100:0 或20:80 或0:100 |
轉換器 | 明暗場五孔轉換器,帶DIC 插槽 |
明場六孔轉換器、明場七孔轉換器,帶DIC 插槽 | |
攝像接口 | 0.35X、0.65X、1X攝像接筒,C 型接口,可調焦 |
濾色片 | 反射用干涉濾色片 |
其他 | DIC微分干涉組件 |